SJ 20744-1999
半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则
General rule of infrared absorption spectral analysis for the impurity concentration in semiconductor materials
SJ 20744-1999 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- SJ 20744-1999
- 发布
- 1999年
- 发布单位
- 行业标准-电子
- 当前最新
- SJ 20744-1999
- 本标准规定了半导体材料中杂质含量的红外吸收分析方法的术语、基本原理、仪器设备、样品制备、测量条件、测量步骤和测量结果的计算。 本标准适用于在红外光谱区为透明的并在该区域产生杂质吸收带的任何半导体单晶材料红外分析方法。
SJ 20744-1999相似标准
推荐
工信部批准公布563项行业标准 多项与仪器分析方法相关
2021-07-01YB/T 4908.4-2021钒铝合金 氢含量的测定 惰性气体熔融红外吸收法或热导法 本标准规定了惰性气体熔融红外吸收法或热导法测定氢含量。 本标准适用于钒铝合金中氢含量的测定，测定范围（质量分数）：0.0005%～0.0200%。...
事关仪器仪表行业！这些标准要修改了
半导体纳米粉体材料紫外-可见漫反射光谱的测试方法2018-12-2815GB/T 37182-2018气体分析 等离子发射气相色谱法2019-11-0116GB/T 37185-2018气体分析 室内挥发性有害有机物的测定 “SUMMA罐-硅烷化管”采样气相色谱/质谱联用（GC/MS）法2019-11-0117GB/T 37186-2018气体分析 二氧化硫和氮氧化物的测定 紫外差分吸收光谱分析法...
超全||国内、外试剂纯度超强解析及九类常用试剂应用等级
03光谱纯试剂光谱纯溶剂具有以下优点：1、低紫外吸收、低红外吸收；2、杂质含量低；3、适用于UV、IR光谱分析；用途：用于UV、IR光谱分析04优级纯试剂符合国际标准要求，金属元素杂质含量低（大多是ppm级）。用途：优级纯试剂可用于大多数常规实验，这类产品还可应用于生产领域。...
646项国家标准发布 涉及多项仪器仪表标准
半导体纳米粉体材料紫外-可见漫反射光谱的测试方法2018-12-2815GB/T 37182-2018气体分析 等离子发射气相色谱法2019-11-0116GB/T 37185-2018气体分析 室内挥发性有害有机物的测定 “SUMMA罐-硅烷化管”采样气相色谱/质谱联用（GC/MS）法2019-11-0117GB/T 37186-2018气体分析 二氧化硫和氮氧化物的测定 紫外差分吸收光谱分析法...