SJ 20744-1999
半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则

General rule of infrared absorption spectral analysis for the impurity concentration in semiconductor materials


SJ 20744-1999 中,可能用到以下耗材

 

差示扫描量热仪(DSC)

差示扫描量热仪(DSC)

北京携测技术有限公司

 

RYMO红外紫外窗口片(双面增透Ravg<1%@8~12μm)

RYMO红外紫外窗口片(双面增透Ravg<1%@8~12μm)

江阴韵翔光电技术有限公司

 

RYMO红外紫外窗口片(双面增透Ravg<1%@3~5μm)

RYMO红外紫外窗口片(双面增透Ravg<1%@3~5μm)

江阴韵翔光电技术有限公司

 

Edmund溴化钾(KBr)窗口片

Edmund溴化钾(KBr)窗口片

江阴韵翔光电技术有限公司

 

Edmund可调光学狭缝

Edmund可调光学狭缝

江阴韵翔光电技术有限公司

 

Edmund氟化钡 (BaF2) 窗口片

Edmund氟化钡 (BaF2) 窗口片

江阴韵翔光电技术有限公司

 

EKSMA氟化钡(BAF2)窗口片

EKSMA氟化钡(BAF2)窗口片

江阴韵翔光电技术有限公司

 

氟化钡窗片

氟化钡窗片

天津天光光学仪器有限公司

 

荧光标样和参比材料

荧光标样和参比材料

安捷伦科技(中国)有限公司

 

twobtech205 型双光束臭氧监测仪

twobtech205 型双光束臭氧监测仪

江阴韵翔光电技术有限公司

 

Edmund氯化钠(NaCl)窗口片

Edmund氯化钠(NaCl)窗口片

江阴韵翔光电技术有限公司

 

SJ 20744-1999

标准号
SJ 20744-1999
发布
1999年
发布单位
行业标准-电子
当前最新
SJ 20744-1999
 
 
本标准规定了半导体材料中杂质含量的红外吸收分析方法的术语、基本原理、仪器设备、样品制备、测量条件、测量步骤和测量结果的计算。 本标准适用于在红外光谱区为透明的并在该区域产生杂质吸收带的任何半导体单晶材料红外分析方法。

SJ 20744-1999相似标准


推荐

工信部批准公布563项行业标准 多项与仪器分析方法相关

2021-07-01YB/T 4908.4-2021钒铝合金  氢含量的测定  惰性气体熔融红外吸收法或热法    本标准规定了惰性气体熔融红外吸收法或热法测定氢含量。    本标准适用于钒铝合金中氢含量的测定,测定范围(质量分数):0.0005%~0.0200%。...

超全||国内、外试剂纯度超强解析及九类常用试剂应用等级

03光谱纯试剂光谱纯溶剂具有以下优点:1、低紫外吸收、低红外吸收;2、杂质含量低;3、适用于UV、IR光谱分析;用途:用于UV、IR光谱分析04优级纯试剂符合国际标准要求,金属元素杂质含量低(大多是ppm级)。用途:优级纯试剂可用于大多数常规实验,这类产品还可应用于生产领域。...

646项国家标准发布 涉及多项仪器仪表标准

 半导体纳米粉体材料紫外-可见漫反射光谱的测试方法2018-12-2815GB/T 37182-2018气体分析 等离子发射气相色谱法2019-11-0116GB/T 37185-2018气体分析 室内挥发性有害有机物的测定 “SUMMA罐-硅烷化管”采样气相色谱/质谱联用(GC/MS)法2019-11-0117GB/T 37186-2018气体分析 二氧化硫和氮氧化物的测定 紫外差分吸收光谱分析法...

事关仪器仪表行业!这些标准要修改了

 半导体纳米粉体材料紫外-可见漫反射光谱的测试方法2018-12-2815GB/T 37182-2018气体分析 等离子发射气相色谱法2019-11-0116GB/T 37185-2018气体分析 室内挥发性有害有机物的测定 “SUMMA罐-硅烷化管”采样气相色谱/质谱联用(GC/MS)法2019-11-0117GB/T 37186-2018气体分析 二氧化硫和氮氧化物的测定 紫外差分吸收光谱分析法...


SJ 20744-1999 中可能用到的仪器设备


谁引用了SJ 20744-1999 更多引用





Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号