SJ/T 10274-1991
掩模对准曝光机测试方法

Test methods of mask alignment and exposure system

SJ/T 10274-1991 中，可能用到以下仪器设备

 

徕卡Leica DCM 3D白光共焦干涉显微镜

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SJ/T 10274-1991

标准号
SJ/T 10274-1991
发布日期
1991年11月12日
实施日期
1992年01月01日
废止日期
无
中国标准分类号
L97
国际标准分类号
31-550
发布单位
CN-SJ
适用范围
本标准规定了测试掩模对准曝光机的一般要求和方法。 本标准适用于接触式和接触一接近式曝光机。

SJ/T 10274-1991 中可能用到的仪器设备

工业显微镜/工具显微镜 差示扫描量热仪(DSC/DTA) 硬度计


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