BS EN ISO 9220:2022
跟踪更改 金属涂层 涂层厚度的测量 扫描电子显微镜法

Tracked Changes. Metallic coatings. Measurement of coating thickness. Scanning electron microscope method


BS EN ISO 9220:2022 中,可能用到以下仪器设备

 

日本电子JSM-6510系列扫描电子显微镜

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日本电子株式会社(JEOL)

 

FEI Quanta x50 FEG场发射环境扫描电镜

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赛默飞电子显微镜(原FEI)

 

蔡司ULTRA 55扫描电子显微镜

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北京欧波同光学仪器有限公司/欧波同/OPTON

 

日本电子6700F高分辨扫描电子显微镜

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日本电子株式会社(JEOL)

 

蔡司Gemini Sigma 300/VP SEM超高分辨率场发射扫描电镜

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北京欧波同光学仪器有限公司/欧波同/OPTON

 

蔡司SIGMA 500/VP高分辨率场发射扫描电镜

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北京欧波同光学仪器有限公司/欧波同/OPTON

 

蔡司MultiSEM 505/MultiSEM 506扫描电子显微镜

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北京欧波同光学仪器有限公司/欧波同/OPTON

 

日本电子JSM-7200F扫描电子显微镜

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日本电子株式会社(JEOL)

 

大气压扫描电镜

大气压扫描电镜

日本电子株式会社(JEOL)

 

聚焦离子束系统

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北京欧波同光学仪器有限公司/欧波同/OPTON

 

ULTRA 结构分析用场发射扫描电子显微镜

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北京欧波同光学仪器有限公司/欧波同/OPTON

 

过程控制用微粒分析工具/扫描电镜SEM

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北京欧波同光学仪器有限公司/欧波同/OPTON

 

Quanta SEM

Quanta SEM

赛默飞电子显微镜(原FEI)

 

蔡司ULTRA 55扫描电子显微镜

蔡司ULTRA 55扫描电子显微镜

卡尔蔡司(上海)管理有限公司

 

蔡司SIGMA 500/VP高分辨率场发射扫描电镜

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卡尔蔡司(上海)管理有限公司

 

蔡司MultiSEM 505/MultiSEM 506扫描电子显微镜

蔡司MultiSEM 505/MultiSEM 506扫描电子显微镜

卡尔蔡司(上海)管理有限公司

 

聚焦离子束系统

聚焦离子束系统

卡尔蔡司(上海)管理有限公司

 

ULTRA 结构分析用场发射扫描电子显微镜

ULTRA 结构分析用场发射扫描电子显微镜

卡尔蔡司(上海)管理有限公司

 

过程控制用微粒分析工具/扫描电镜SEM

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卡尔蔡司(上海)管理有限公司

 

Apollo 300 扫描电镜

Apollo 300 扫描电镜

TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN LYRA3镓等离子双束FIB系统(GM)

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

泰思肯VEGA 3 LMU/LMH扫描电镜

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN MIRA3场发射扫描电镜(XMU/XMH)

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

泰思肯VEGA 3 SBU/VEGA 3 SBH微型扫描电子显微镜

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

泰思肯VEGA3 GMH/VEGA3 GMU扫描电镜

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

超大样品室钨灯丝扫描电镜VEGA 3 XMU/XMH

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN MIRA3场发射扫描电镜(LMH/LMU)

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN RISE电镜拉曼一体化显微镜

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN S8000G 高分辨镓离子型双束扫描电镜

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN S8000 超高分辨场发射扫描电镜

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

泰思肯微型扫描电子显微镜Small Base

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN Xe等离子双束扫描电镜(FIB-SEM)

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

泰思肯集成矿物分析仪 TIMA-X(GM)

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TIMA-X(FEG GMU/GMH)大样品仓矿物分析仪系统

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

GAIA3 model 2016超高分辨双束扫描电镜系统 (FIB-SEM)

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN 聚焦离子束扫描电镜 LYRA3(XM)

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN综合矿物分析仪 TIMA-X(LM)

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN MAIA3 model 2016 (XM)超高分辨场发射扫描电镜

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN VEGA3钨灯丝扫描电镜(LM)

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN MAIA3 model 2016 (LM)超高分辨场发射扫描电镜

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN MIRA3场发射定制版扫描电镜(AMU)

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN VEGA3大样品室钨灯丝扫描电镜(XM)

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

GAIA3(XMU/XMH) Ga离子双束扫描电镜(FIB-SEM)

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN MIRA3场发射扫描电镜(GMH/GMU)

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN大样品仓双束电镜 (FIB-SEM)

TESCAN大样品仓双束电镜 (FIB-SEM)

TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

集成矿物分析仪 TIMA-X FEG(LM)

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN MAIA3 model 2016 (GM)超高分辨场发射扫描电镜

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TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

BS EN ISO 9220:2022

标准号
BS EN ISO 9220:2022
发布
2022年
发布单位
英国标准学会
当前最新
BS EN ISO 9220:2022
 
 
范围 本文件规定了通过扫描电子显微镜(SEM)检查横截面来测量金属和其他无机涂层局部厚度的破坏性方法。 该方法适用于厚度达几毫米的情况,但对于如此厚的涂层,使用光学显微镜通常更实用(参见 ISO 1463)。 厚度下限取决于所达到的测量不确定度(参见第 10 条)。 注:当有机层既未因横截面制备或成像过程中的电子束而损坏时,该方法也可用于有机层。

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