T/QGCML 2307-2023
光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲生产技术要求

Technical requirements for the production of low metal content tetramethoxymethyl glycoluril for photoresist

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标准号: T/QGCML 2307-2023
发布: 2023年
发布单位: 中国团体标准
当前最新: T/QGCML 2307-2023

本文件规定了光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲生产技术要求的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输及贮存。本文件适用于光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲的生产和检验。

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