Element GD Plus辉光放电质谱仪自问世以来,在半导体材料检测领域发挥了无可替代的作用。在高纯材料检测中,为了实现高纯材料中痕量杂质的低检出限检测,选择合适的分辨率检测不同的杂质元素,同时尽可能降低质谱干扰的浓度无疑是非常必要的。...
在410项拟立项国家标准项目中有多项涉及仪器分析检测标准,如辉光放电质谱法、波长色散X射线荧光光谱法、电感耦合等离子体原子发射光谱法、气相色谱-质谱联用法等。...
介绍了电镀锡薄钢板氧化膜和钝化膜的分析检测方法,包括传统的化学分析方法、电化学分析方法和现代表面分析技术,如X射线光电子能谱(XPS)、俄歇电子能谱(AES)、辉光放电光谱(GDS)以及电子探针微区分析(EPMA)等。...
半导体材料检测方案GD-MS(辉光放电质谱仪)是在双聚焦高分辨质谱的技术上,采用快速流辉光放电离子源,实现高纯固体样品直接分析的最佳工具,具有检出限低、基体效应小、制样简单和全元素快速检测的突出优势。...
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