BS EN 62374-1:2010(2011)
半导体器件 第1部分：金属层间的时间相关介电击穿 (TDDB) 测试
Semiconductor devices Part 1 : Time - dependent dielectric breakdown (TDDB) test for inter - metal layers
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- 0000年 BS EN 62374-1:2010(2011)
- 2010年 BS EN 62374-1:2010 半导体装置.依赖时间的金属层间的介质击穿(TDDB)试验
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