T/CPIA 0065-2024
异质结电池用等离子体增强化学气相淀积（PECVD）设备

Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) equipment for heterojunction cells


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标准号
T/CPIA 0065-2024
发布
2024年
发布单位
中国团体标准
当前最新
T/CPIA 0065-2024
 
 
本文件规定了本征薄膜异质结电池用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备的术语和定义、工作环境、设备要求、试验方法、检验规则以及包装、标志、搬运和运输、贮存等。 本文件适用于本征薄膜异质结电池用PECVD设备。产品主要用于沉积多种薄膜材料，例如非晶硅、微晶硅、二氧化硅、氮化硅薄膜等本征薄膜材料等。

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