GB/T 41853-2022
半导体器件 微机电器件 晶圆间键合强度测量

Semiconductor devices—Micro-electromechanical devices—Wafer to wafer bonding strength measurement

GBT41853-2022, GB41853-2022


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GB/T 41853-2022

标准号
GB/T 41853-2022
别名
GBT41853-2022
GB41853-2022
发布
2022年
采用标准
IEC 62047-9:2011 IDT
发布单位
国家质检总局
当前最新
GB/T 41853-2022
 
 
本文件规定了晶圆键合后键合强度的测量方法,适用于硅-硅共熔键合、硅-玻璃阳极键合等多种晶圆键合方式,以及MEMS工艺、组装流程中相关结构尺寸的键合强度的评估。 本文件适用于从十微米到几毫米厚的晶圆间的键合强度测量。

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