T/ZJATA 0017-2023
制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备
Chemical vapor deposition (CVD) epitaxy equipment for preparing silicon carbide semiconductor materials
T/ZJATA 0017-2023 中，可能用到以下仪器
- 标准号
- T/ZJATA 0017-2023
- 发布
- 2023年
- 发布单位
- 中国团体标准
- 当前最新
- T/ZJATA 0017-2023
- 本文件包含了制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备（以下简称“外延设备”）的产品分类、工作条件、技术要求、试验方法、检测规则、标志、包装、运输和贮存要求内容，对外延设备的反应室系统、温度控制系统、加热系统、真空系统、加工（碳化硅外延片）质量指标给出了统一技术参数及评价方法。通过对可靠性、加工效率、温度压力流量等关键参数控制，保证了设备的精准性...
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