T/ZJATA 0017-2023
制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备

Chemical vapor deposition (CVD) epitaxy equipment for preparing silicon carbide semiconductor materials


T/ZJATA 0017-2023 发布历史

T/ZJATA 0017-2023由中国团体标准 CN-TUANTI 发布于 2023-06-20,并于 2023-07-20 实施。

T/ZJATA 0017-2023在国际标准分类中归属于: 31.220.01 机电元件综合。

T/ZJATA 0017-2023 制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备的最新版本是哪一版?

最新版本是 T/ZJATA 0017-2023

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  • 2023年 T/ZJATA 0017-2023 制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备

 

本文件包含了制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备(以下简称“外延设备”)的产品分类、工作条件、技术要求、试验方法、检测规则、标志、包装、运输和贮存要求内容,对外延设备的反应室系统、温度控制系统、加热系统、真空系统、加工(碳化硅外延片)质量指标给出了统一技术参数及评价方法。通过对可靠性、加工效率、温度压力流量等关键参数控制,保证了设备的精准性、安全性。

标准号
T/ZJATA 0017-2023
发布
2023年
发布单位
中国团体标准
当前最新
T/ZJATA 0017-2023
 
 

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