T/CNIA 0143-2022
半导体材料痕量杂质分析用超纯树脂器皿
Ultrapure Resin Vessels for Trace Impurity Analysis of Semiconductor Materials
T/CNIA 0143-2022 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- T/CNIA 0143-2022
- 发布
- 2022年
- 发布单位
- 中国团体标准
- 当前最新
- T/CNIA 0143-2022
- 本文件规定了半导体材料痕量杂质（ng/kg～μg/kg级别）分析用超纯树脂器皿（以下简称器皿）的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存、随行文件及订货单内容。
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