近期,针对半导体和电子产品中污染物的检测,珀金埃尔默推出了《半导体和电子产品解决方案》,方案中包含十多篇应用文献:ICP-MS在超纯水分析中的应用使用单颗粒ICP-MS在反应模式下分析SiO2纳米颗粒利用ICP-MS对半导体级盐酸中的杂质进行分析SP-ICP-MS测定半导体有机溶剂中的含铁纳米颗粒使用ICP-MS测定半导体行业常用有机溶剂中的杂质石墨炉原子吸收光谱法测定超纯酸和光刻胶去除溶液中的各类超痕量元素按照伦敦金属交易所指南使用...
5超高纯分析的外设要求为了满足超高纯分析的要求,除了仪器的检测限、绝对背景等性能要符合要求外,对仪器的外部环境,试验用器皿等也有高标准的要求,要求有超净室, PFA器皿等,超高纯试剂,适当的进样系统等等。集成电路制造业中,各种高纯试剂、材料中的痕量污染元素的分析是最重要的环节之一。高纯试剂的分析需要严格的试验条件和严格的防止污染的措施。...
赛默飞先进的离子色谱和相关技术能为高纯水痕量阴阳离子分析提供离线和在线监测方案,为电子级高纯试剂中ppb-ppm级阴离子和百分比级混酸的含量提供检测方案,并为半导体生产环境空气中痕量阴阳离子的分析提供解决方案。...
具有以下几个优点:(1)灵敏度高:ICP-MS仪器的灵敏度一般高 出lCP.AES一到两个数量级,从而对多数元素能达 到更低的检出限:(2)动态线性范围宽:(3)可多元素同时分析;(4)分析速度快,单个样品一般在几秒钟内完成:(5)分析元素范围广,能分析元素周期表中除碳、氢、氧外的绝大多数元素。正因为这些优点,使ICP-MS分析技术广泛应 用于半导体工业用高纯材料的痕量杂质分析中。...
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