找不到引用T/ZZB 0639-2018 氧化锌铝磁控溅射靶材 的标准
红外反射层铜膜采用直流磁控溅射铜靶的方式实现;氮氧化物双吸收层的制备是采用通入一定比例的氮气、氧气气氛,使其与钛靶、铝靶反应的反应磁控溅射技术;减反层制备使用的是氧化铝陶瓷靶,射频溅射法制备氧化铝膜层。读完这篇文章,大家对溅射镀膜技术是不是有了更进一步的了解呢?...
大家好,本期我们为大家带来的是「磁控溅射仪制备50nm氧化锌(ZnO)薄膜」,敬请观看!▼/ 前情提要 /本期沈阳科晶小课堂为您讲解磁控溅射仪制备50nm氧化锌(ZnO)薄膜!使用设备:VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪▼/ 点击观看视频 /▼/ 小结 / 在硅片上制备50nm的氧化锌(ZnO)薄膜,欢迎各位客户莅临或邮寄样品到科晶实验室体验测试!欢迎后台区留言!...
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