例如,使用更高介电材料(如二氧化铪)以及氮化电介质(如氮化铝)。4低损伤在电子工业中,氮化镓与其他半导体相比是加工敏感性最高的材料之一。幸运的是,远程可控等离子ALD技术对氮化镓造成的损耗很低。优化工艺条件以及限制离子能量和通量能够使界面和薄膜产生较低的缺陷密度,与此同时,活性反应组分密度和通量足以生长高质量的膜层材料,并具备量产能力。...
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