这些复杂的生产制造工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行，而且对真空系统和真空设备的洁净度也有着很高的要求。分子泵在半导体设备中的应用在半导体生产制造工艺中，分子泵广泛应用于光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备。光刻机光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握，因此光刻机价格昂贵。...
真空设备在半导体行业中的应用愈来愈广泛，例如真空镀膜设备（蒸发，溅射），干法雷设备（ICP,RIE,PECVD）,热处理设备（合金炉，退火炉），掺杂设备（离子注入机等）这些真空设备作为半导体技术发展不可或缺的条件必将起到越来越重要的作用。氦质谱检漏仪现已广泛应用于半导体设备检漏。 半导体设备及材料需要检漏原因： 1、半导体设备要求高真空，比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。...
设备期间核查的一般要求一期间核查适用于所有设备，但不是所有设备均需要进行期间核查，（条件具备的情况下）在确定设备的期间核查范围时，机构宜重点考虑以下设备：校准周期较长的设备；使用频繁的设备；历次校准结果波动较大或临近最大允许误差的设备；新购的不了解其计量特性及变化的设备；使用或存储环境（振动、高湿等）恶劣或发生过剧烈变化的设备；主要和重要设备（计量基准、标准等）；稳定性差（易漂移、易老化等）且使用频繁的设备...
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