ASTM F1593-08
应用高质量分辩率辉光放电质谱计测定电子级铝中微量金属杂质的标准试验方法
Standard Test Method for Trace Metallic Impurities in Electronic Grade Aluminum by High Mass-Resolution Glow-Discharge Mass Spectrometer
ASTM F1593-08 发布历史
ASTM F1593-08由美国材料与试验协会 US-ASTM 发布于 2008。
ASTM F1593-08 在中国标准分类中归属于: L90 电子技术专用材料，在国际标准分类中归属于: 77.040.99 金属材料的其他试验方法。
ASTM F1593-08 发布之时，引用了标准
- ASTM E1257 用光谱化学分析法评定表面处理用研磨材料的标准指南
- ASTM E135 金属、矿石及相关材料的分析化学的有关标准术语
- ASTM E177 进行室外噪声测量的测量方案的拟定用标准指南
- ASTM E691 为测定试验方法精密度开展的实验室间的研究
ASTM F1593-08的历代版本如下：
- 2008年 ASTM F1593-08(2016) 使用高质量分辨率辉光放电质谱仪测定电子级铝中痕量金属杂质的标准试验方法
- 2008年 ASTM F1593-08 应用高质量分辩率辉光放电质谱计测定电子级铝中微量金属杂质的标准试验方法
- 1997年 ASTM F1593-97(2002) 应用高质量分辩率辉光放电质谱计测定电子级铝中微量金属杂质的标准试验方法
- 1997年 ASTM F1593-97 应用高质量分辩率辉光放电质谱计测定电子级铝中微量金属杂质的标准试验方法
该测试方法适用于半导体行业，用于评估薄膜金属化工艺中使用的材料（例如溅射靶材、蒸发源）的纯度。经有关各方商定，该测试方法可能在负责技术委员会未设想的其他应用中有用。该测试方法旨在供各个实验室的 GDMS 分析人员使用，以统一测定纯铝中痕量杂质的方案和参数。目的是提高实验室间分析数据的一致性。该测试方法还针对 GDMS 分析的用户，以帮助他们了解测定方法以及报告的 GDMS 数据的重要性和可靠性。对于大多数金属物质，常规分析的检测限约为 0.01 重量 ppm。通过特殊的预防措施，检测限制可以达到亚 ppb 水平。本试验方法可作为电子级铝材料生产者和使用单位的参考方法。
1.1 本试验方法适用于高纯铝中微量金属杂质浓度的测定。
1.2 本试验方法适用于扇形磁辉放电质谱仪（GDMS）分析。
1.3 铝基体的金属杂质含量必须达到 99.9 重量%（3N 级）或更纯。主要合金成分（例如硅或铜）的浓度不得大于 1000 重量 ppm。
1.4 该测试方法不包括完成 GDMS 分析所需的所有信息。需要由经验丰富的操作员熟练使用的先进计算机控制实验室设备才能达到所需的灵敏度。该测试方法确实涵盖了负责技术委员会已知的影响高纯铝分析可靠性的特定因素（例如，样品制备、相对灵敏度系数的设置、灵敏度限值的确定等）。
1.5 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。
- 标准号
- ASTM F1593-08
- 发布
- 2008年
- 发布单位
- 美国材料与试验协会
- 替代标准
- ASTM F1593-08(2016)
- 当前最新
- ASTM F1593-08(2016)
- 引用标准
- ASTM E1257 ASTM E135 ASTM E177 ASTM E691