ISO 17331:2004
表面化学分析.从硅片工作基准材料表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定
Surface chemical analysis - Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
ISO 17331:2004 中，可能用到以下耗材
- 标准号
- ISO 17331:2004
- 发布
- 2004年
- 中文版
- GB/T 30701-2014 (等同采用的中文版本)
- 发布单位
- 国际标准化组织
- 替代标准
- ISO 17331:2004/Amd 1:2010
- 当前最新
- ISO 17331:2004/Amd 1:2010
- 引用标准
- ISO 14644-1:1999 ISO 14706:2000 ISO 5725-2:1994
- 本国际标准规定了采用气相分解法或直接酸滴分解法从硅晶片工作标准材料表面收集铁和/或镍的化学方法。 本国际标准适用于铁和/或镍原子表面密度为 6 × 109 个原子/cm2 至 5 × 1011 个原子/cm2 的铁和/或镍。
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