ISO 17331:2004
表面化学分析.从硅片工作基准材料表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定
Surface chemical analysis - Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
ISO 17331:2004 发布历史
ISO 17331:2004由国际标准化组织 IX-ISO 发布于 2004-05。
ISO 17331:2004 在中国标准分类中归属于: G04 基础标准与通用方法，在国际标准分类中归属于: 71.040.50 物理化学分析方法。
本标准有等同采用的 中文版 GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
ISO 17331:2004 发布之时，引用了标准
- ISO 14644-1:1999 洁净室和相关控制环境 第1部分:空气洁净度分级
- ISO 14706:2000 表面化学分析 用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面基本的污染
- ISO 5725-2:1994 测试方法与结果的准确度(正确度与精密度) 第2部分:确定标准测试方法重复性和可再现性的基本方法
ISO 17331:2004的历代版本如下：
- 2010年 ISO 17331:2004/Amd 1:2010 表面化学分析.硅晶片加工标准物质表面元素收集用化学方法和及其光分析仪(TXRF)光谱学测定.修改件1
- 2004年 ISO 17331:2004 表面化学分析.从硅片工作基准材料表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定
本国际标准规定了采用气相分解法或直接酸滴分解法从硅晶片工作标准材料表面收集铁和/或镍的化学方法。 本国际标准适用于铁和/或镍原子表面密度为 6 × 109 个原子/cm2 至 5 × 1011 个原子/cm2 的铁和/或镍。
- 标准号
- ISO 17331:2004
- 发布
- 2004年
- 中文版
- GB/T 30701-2014 (等同采用的中文版本)
- 发布单位
- 国际标准化组织
- 替代标准
- ISO 17331:2004/Amd 1:2010
- 当前最新
- ISO 17331:2004/Amd 1:2010
- 引用标准
- ISO 14644-1:1999 ISO 14706:2000 ISO 5725-2:1994