BS EN 62374-1:2010
半导体装置.依赖时间的金属层间的介质击穿(TDDB)试验

Semiconductor devices. Time-dependent dielectric breakdown (TDDB) test for inter-metal layers

被代替

BS EN 62374-1:2010 发布历史

BS EN 62374-1:2010由英国标准学会 GB-BSI 发布于 2010-12-31，并于 2010-12-31 实施。

BS EN 62374-1:2010 在中国标准分类中归属于: L40 半导体分立器件综合，在国际标准分类中归属于: 31.080.01 半导体器分立件综合。

BS EN 62374-1:2010 半导体装置.依赖时间的金属层间的介质击穿(TDDB)试验的最新版本是哪一版？

最新版本是 BS EN 62374-1:2010(2011) 。

BS EN 62374-1:2010的历代版本如下：

• 0000年 BS EN 62374-1:2010(2011)
• 2010年 BS EN 62374-1:2010 半导体装置.依赖时间的金属层间的介质击穿(TDDB)试验

IEC 62374的本部分描述了半导体器件中应用的金属间层随时间介电击穿（TDDB）测试的测试方法、测试结构和寿命估计方法。

标准号

BS EN 62374-1:2010

发布

2010年

发布单位

英国标准学会

替代标准

BS EN 62374-1:2010(2011)

当前最新

BS EN 62374-1:2010(2011)

 

 

BS EN 62374-1:2010相似标准