G86 工业气体与化学气体 标准查询与下载
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本标准规定了电子工业用液态和气态氮的技术要求、检验方法以及包装、标志等，适用于从分离空气或氨还原法制得的氮，在超大规模集成电路制造中用作净化、覆盖、保护、加压，也用于化学气相淀积时的载气等。 氮气化学性质不活泼，不可燃，是一种窒息性气体。 分子式：N。 相对分子质量：28.0134（按1991年国际相对原子质量）。
Gases for electronic industry--Nitrogen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1997-08-13
- 实施
- 1998-05-01
本标准规定了电子工业用氦气的技术要求、检验方法以及包装、标志等，适用于以深冷法从天然气、空气或工厂弛放气提取的高纯度氦，在半导体及其器件生产中用作清洗气、加压气，也用作载气和保护气等。 分子式：He 相对分子质量：4.003（按1991年国际相对原子质量）
Gases for electronic industry--Helium
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1997-08-13
- 实施
- 1998-05-01
本标准规定了纯氮产品的技术要求、检验方法以及包装、标志等。 本标准适用于由空气分离制取的气态或液态氮，其化学性质不活泼，不可燃，是一种窒息性气体，在化工、冶金、电子等行业中，用作置换气、保护气等。 分子式：N2。 相对分子质量：28.0134（按1991年相对原子质量）。
Pure nitrogen
- ICS
- 71.060.10
- CCS
- G86
- 发布
- 1996-12-02
- 实施
- 1997-05-01
本标准规定了工业氮产品的技术要求、检验方法以及包装、标志等。本标准适用于由空气分离制取的气态氮或液态氮，其化学性质不活泼，不可燃，是一种窒息性气体，主要用作保护气。
Industrial nitrogen
- ICS
- 71.060.10;17.040.10
- CCS
- G86
- 发布
- 1996-12-02
- 实施
- 1997-05-01
本标准规定了高纯氮产品的技术要求、检验方法以及包装、标志等。 本标准适用于由空气分离制取的高纯度气态或液态氮，其化学性质不活泼，不可燃，是一种窒息性气体，主要用于科学研究、标准混合气制备、保护气、置换气、载气、反应气等对氮气纯度要求高的领域。分子式：N。相对分子质量：28.0134（按1991年相对原子质量）。
High purity nitrogen
- ICS
- 71.060.10
- CCS
- G86
- 发布
- 1996-12-02
- 实施
- 1997-05-01
本标准规定了高纯氩的技术要求、检验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存。 本标准适用于以深冷法从空气、合成氨尾气中提取的气瓶包装的高纯气态氩。 高纯氩主要用作半导体工业，稀有金属、有色金属的冶炼，焊接中的保护气，特种灯泡的充填气，气相色谱分析用载气及配制标准气的底气等。 分子式：Ar 相对分子质量：39.948（按1991年国际相对原子质量）
High purity argon
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了纯氦产品的技术要求、检验方法、检验规则以及产品的包装、标志、贮存、运输等。 本标准适用于深冷法自空气、天然气或工厂弛放气中提取的瓶装气态氦，主要用于焊接、潜水呼吸、特种金属冶炼、色谱分析载气、以及增压、清洗用气等。
Pure helium
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了工业氦气的技术要求、检验方法、检验规则以及产品的包装、标志、贮存、运输等。 本标准适用于深冷法、膜渗透法自天然气、空气或工厂弛放气中提取的瓶装气态氦。主要用于检漏、填充气球、氦飞艇、飞行船等。 分子式：He。 相对分子质量：4.00260（按1991年国际相对原子质量）。
Industrial helium
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了工业用氧的技术要求、检验方法、检验规则、包装、标志、贮存、运输及安全要求。 本标准适用于深冷法空气分离制取的气态和液态氧，主要用于气体火焰加工和其他工业目的。 分子式：O2 相对分子质量：31.999（按1991年国际相对原子质量）
Industrial oxygen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了电子工业用硅烷气体的技术要求、检验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求等。 本标准主要用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非晶硅薄膜淀积等。 分子式：SiH4 相对分子质量：32.117（按1991年国际相对原子质量）。 101.3kPa下的沸点：-112℃ 20℃和101.3kPa下气体密度：1.342kg/m。 -185℃下液体密度：711kg/m。
Gas for electronic industry--Silane
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了高纯氦气产品的技术要求、检验方法、检验规则以及产品的包装、标志、贮存与运输等。 本标准适用于以深冷法自天然气、空气或工厂弛放气中提取的瓶装高纯度气态氦。主要用于标准混合气的制备、低温超导、科学研究、色谱分析载气等。
High pruity helum
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了纯氩产品的技术要求、检验方法、验收规则以及包装、标志、贮存与运输。 本标准适用于深冷法从空气、合成氨尾气中提取的气态和液态纯氩，主要用于金属焊接、冶炼等。 分子式：Ar 相对分子质量：39.948（按1991年国际相对原子质量）
Pure argon
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了纯氢、高纯氢、超纯氢的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮存及运输和安全要求。 本标准适用于以工业氢为原料经吸附法、扩散法以及其他方法净化制取的瓶装或管道输送的氢气， 主要用于电子工业、石油化工、金属冶炼、国防尖端技术和科学研究等部门。
Pure hydrogen, high pruity hydrogen and ultra pure hydrogen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了工业氢的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮存和运输及安全要求。 本标准适用于水电解法、食盐电解法制取之压缩与未压缩工业氢，主要用于石油和油脂加氢、人造宝石和石英玻璃制造、金属切割与冶炼。
Hydrogen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了氙气的技术要求，检验方法，检验规则，包装、标志、运输及贮存。本标准适用于深冷法从空气中提取的气态氙。主要用于电光源工业，也用于医疗、电真空、激光等领域。 氙是一种无臭、无味的不活泼气体。 分子式：Xe 相对分子质量：131.29（按1991年国际相对原子质量）
Xenon
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了氪气的技术要求、检验方法、检验规则，包装、标志、运输及贮存。 本标准适用于深冷法从空气中提取的气态氪。主要用于电真空及电光源等工业。 氪是一种无臭、无味的不活泼气体。 分子式：Kr 相对分子质量：83.80（按1991年国际相对原子质量）
Krypton
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了磷化氢产品的技术要求、试验方法、检验规则、安全要求以及包装、标志、运输与贮存。 本标准适用于亚磷酸热分解、磷化物水解、单质磷与水或碱反应等方法获得并经精制得到的磷化氢产品。它主要用于半导体器件和集成电路生产的外延、离子注入和掺杂。磷化氢是一种剧毒、可燃、具有腐鱼味的无色气体，在空气中高浓度时能自燃。 分子式：PH3 相对分子质量：33.9975（按1989年国际原子量）
Gas for electronic industry.Phosphine
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1993-12-30
- 实施
- 1994-10-01
本标准规定了气体中微量氧的测定方法、对仪器的要求、测定条件、步骤及结果处理。 本标准适用于氮、氩等气体中微量氧的测定。测定范围为（0.3～10）×10-6（V/V）。加上安全措施后，本标准也适用于氢气中微量氧的测定。
Determination of Trace Oxygen in Gas Yellow Phosphorus Luminescent Method
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1993-12-30
- 实施
- 1994-10-01
本标准规定了氧气中微量氩、氮和氪含量的测定方法。 本标准适用于纯氧、高纯氧以及电子工业用气体氧等气态和液态氧中微量氩、氮和氪含量的测定。
Determination of trace argon, nitrogen and krypton inoxygen. Gas chromatographic method
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1993-08-26
- 实施
- 1994-07-01
本标准规定了电子工业用气体氧和散装液态氧的技术要求，检验方法，检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 电子工业用氧主要用于二氧化硅化学气相淀积，用作氧化源和生产高纯水的反应剂，用于等离子体蚀刻和剥离。也可用于光导纤维。 分子式：O2 相对分子质量：31.999（1989年国际相对原子质量表）
Gases for electronic industry. Oxygen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1993-08-26
- 实施
- 1994-07-01
