应用领域：电子/电器/半导体，纳米材料，高分子材料
资料类型：样本
NX-Wafer原子力显微镜提供精准的形貌量測，可用來监控化学机械研磨平面化制程，检测因材料差异所造成异质材料间的凹陷(dishing)效应与浸蚀(erosion)效应
NX-Wafer同時具备原子力形貌量测能力，可用以检测毫米橫向尺度范围，奈米級纵向尺度的高度变化
方案摘要
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