仪器简介：

- 快速热（退火）处理
-薄栅氧化反应 (纳米装置)
-低共熔的黏结 (反应性金属黏结) 
-硅化物 构造
-硅化物联合构造

技术参数：

- 样品尺寸 ： ~ 4", 
-温度控制 : Max. 1,000度(更高温度根据客户需要可选）
-加热源（灯源）：钨卤灯

-气体 流量精确控制：MFC控制
-真空泵 : 旋转泵 (多选 - TMP, Dry pump)
-过程控制: 手动

主要特点：

该响应快速、高效快速退火，可以在很短时间内快速升温1000摄氏度，且在材料表面退火温度均匀；方便移动设计，温度控制方便，价格低廉。