应用： 

-太阳能电池 多晶硅，N-Si, P-Si
-Si3N4 薄膜
-防指纹处理

样品尺寸 : 4 ~ 8inch,                                                                                                                                            系细丝DC 功率 : 3kW ~ 7kW (客户可选)
Chuck bias (option) : (+)/(-)1kV, 30mA
基底加热: Max. 300∩ (wafer 温度)
Load-lock chamber : 独立型 (option - Robot type) 
极限压力 :  5*10-3Torr 
真空泵 : Dry pump (option - TMP) 
过程控制 :  PC自动控制