仪器简介：
Nanosis-610是NDD公司和美国斯坦福大学联合研制的zei新纳米压印设备。纳米压印（NIL，Nano Imprint）是一种纳米微制造技术，利用该技术，可以将由电子束光刻（e-Beam Lithiography）或聚焦离子束（FIB）技术制备的模具的纳米结构通过“印章”的办法转移到高分子基底上。纳米压印技术非常重要，产生的压力必须均匀、统一。纳米压印技术应用领域非常宽广，比较典型的应用包括：OLED（有机电致发光二极管）、微流体染料激光器、有机薄膜晶体管（OTFTs）、亚波长光学元器件、Si晶片、塑料以及高分子材料等的纳米微制造。

技术参数：
1.晶片尺寸：6英寸
2.加工方法：紫外线和加热
3.系统控制：PLC控制全部自动化
4.压印程序：全部自动化
5.紫外灯类型：Hg-Xe

主要特点：
1.NANOSIS 620可以很方便的将复杂的结构图案进行完全的转移
2.全部自动化（除了安装和拆卸样品）
3.加工效率很高