centrotherm E1550 最优化系统,支持多种工艺能力,适用于中等生产能力和高工艺性能用户,是一款安全、可靠、易于维护的卧式扩散炉平台。该炉可高达4层石英管或SiC工艺管, 其硅片尺寸可达300毫米的。凭借其低维护和运行成本、及占地面积小等优势, E1550 可以生产出极具成本效益的产品。
特点:
适用于常压以及LPCVD和PECVD工艺
特殊工艺腔体3或4种版本可供选择
先进的冷却系统:不同炉管之间没有热干扰
全自动片架传送系统
模块化部件设计,便于在洁净室安装调试
E2000-大批量生产的卧式炉
centrotherm 2000专为大批量生产而设计,支持多种工艺能力,适用于大批量生产和高工艺性能的用户,并具有突出的高性能、占地面积小、低购置成本等优势。该产品对多种应用要求的高工艺具有的灵活性,并可高达4层石英管或硅片尺寸可达300毫米的SiC工艺管
特点:
适用于常压以及LPCVD和PECVD工艺
特殊工艺腔体3或4种版本可供选择
先进的冷却系统:不同炉管之间没有热干扰
全自动片架传送系统
模块化部件设计,便于在洁净室安装调试
centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生长 Activator150可用于多种类型炉体, 如研发炉和批量生产炉, 且处理灵活性高
centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生长 Activator150独立的小批量晶圆 生产设备,能实现各项热处理工艺,适用于少量生产及 研发
centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生长 Activator150
Centrotherm 高温退火/氧化系统-Activator/Oxidator 150具有性能高、占地小和生产成本低等特点
Centrotherm 高温退火/氧化系统-Activator/Oxidator 150广泛的工艺范围实现了对自定义化程序的优化, 例如温度, 气路系统和压力
Centrotherm 高温退火/氧化系统-Activator/Oxidator 150可用于常规的硅圆片的氧化