莎姆克RIE-200iP ICP ...

莎姆克RIE-200iP ICP Plasma Etching Systems (ICP-RIE)高密度等离子刻蚀机

产品型号:莎姆克RIE-200iP
品牌:莎姆克
产品产地:日本
产品类型:进口
原制造商:莎姆克股份有限公司 Samco Inc.
状态: 在售
厂商指导价格: 未提供
英文名称:High density plasma etching machine
上市时间: 2012年
优点: 莎姆克的RIE-200iP是专为研发及半量产目的设计的搬送室型设备。它备有莎姆克的zl龙卷风ICP电极,可产生稳定及高密度的等离子体,并达到高选择比、高精确度和优秀的均匀度。另外,RIE-200iP也具有莎姆克独创的多方排气系统可供应稳定均匀的气体至晶片。
参考成交价格: 6000万元[日元] 查中标价
基本参数

zei大可处理6英寸晶片

搬送室设计允许使用氯系气体

可调节晶片温度(氦气冷却)

zl龙卷风ICP电极

多方排气系统可改善均匀度和效能

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厂家资料
莎姆克股份有限公司 Samco Inc.
地址:上海市延安西路129号 上海华侨大厦1410室
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