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认真做好每一件喜欢的事，把每一件要做的事都变成喜欢并认真去做的事
投影式光刻机一般采用步进-扫描式曝光方法。光源并不是一次把整个掩模上的图形投影在晶圆上，曝光系统通过一个狭缝式曝光带（slit）照射在掩模上，载有掩模的工件台在狭缝下沿着一个方向移动，等价于曝光系统对掩模做了扫描，与掩模的扫描同步，晶圆沿相反的方向以1/4的速度移动。现代光刻机中，掩模扫描的速度可以高达2400mm/s，对应的晶圆移动速度是600mm/s。较高的扫描速度可以缩短曝光时间，从而提高光刻机的产能。
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