光刻机采用激光将图形刻印在半导体上，但光是电磁波，不同的光线具有不同的波长。
如果需要刻印的图形非常微小，而采用的光线波长较大，则刻不出想要的图形。
就像你不能用拖把（书写痕迹粗大）在田字格本上写毛笔字（笔划细小）。
现在的芯片集成度越来越高，最高端的芯片工艺已经到了2nm级别。
而可见光波长在780nm（红）～400nm（紫）之间，刻不出小于400nm的图形。
紫外线波长在400nm～10nm之间，采用极紫光才可能刻印10nm宽的线条。
现在最高集成度的芯片，都在10nm以下，已经属于X射线范畴了。
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