解决方案|ICP法测定半导体行业生产用材料中镓、铁、钒、铜、钙、镁、铝、锌含量

东西分析

2022.8.26

作者东西分析

TA的动态

前言

半导体行业目前已成为衡量一个国家产业竞争力和综合国力的重要标志。随着半导体行业进入纳米时代，杂质含量成为非常敏感的存在。如何检测杂质含量已成为半导体工业界面面临的重要挑战。东西分析拥有多款电感耦合等离子体光谱仪（ICP-OES）、电感耦合等离子体飞行时间质谱仪（ICP-TOF MS）等产品为半导体行业无论从材料、集成电路制造还是到封装测试等各环节中痕量金属元素分析提供可靠检测方法，助力提升产品质量。本文利用ICP建立了饱和树脂中镓、铁、钒、铜、钙、镁、铝、锌元素的测定方法，供相关人员参考。

ICP-7760HP型全谱直读电感耦合等离子体发射光谱仪

PART ONE

实验部分

仪器与试剂

ICP-7760HP型全谱直读电感耦合等离子体发射光谱仪；

硝酸；

硫酸；

氢氟酸；

镓、铁、钒、铜、钙、镁、铝、锌标准物质。

实验条件

样品处理

取适量树脂，将树脂洗至中性，105℃烘干3 h，称重，（饱和树脂：烘干后质量为5.2050g），将样品进行充分研磨后，称取0.2 g，加入5 ml HNO₃、2 ml H₂SO₄、0.75 ml HF、0.8 ml H₂SO₄，放置20 min后进行微波消解，消解完成后定容至25 ml。

PART TWO

实验结果

标准曲线

配置浓度分别为0.00、0.50、1.00、3.00、5.00、10.00 mg/L 八种元素的标准溶液，依次按照实验条件上机测试，绘制标准曲线。

样品测试

将处理好的样品按照实验条件取适量上机检测，同时做平行性实验，检测结果如下：

PART THREE

实验总结

本文通过研究半导体行业中材料的前处理方法及优化ICP方法的分析条件，建立了ICP法测定半导体生产用样品中镓、铁、钒、铜、钙、镁、铝、锌含量的方法。本法具有操作简便、线性范围宽、准确度好、多元素同时测定等优点，可用于半导体生产各环节中痕量金属元素分析。

关于我们

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