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超快速元素深度剖析:辉光放电光谱仪 GD-Profiler 2™

HORIBA科学仪器事业部
2023.10.12

    产品名称:辉光放电光谱仪

    产地:法国

    型号:GD-Profiler 2™

01

仪器用途及应用范围:

GD-Profiler 2™ 配备的射频源可在脉冲模式下对易碎样品进行测试,广泛应用于高校以及工业研究实验室,其应用范围有腐蚀研究、PVD 涂层工艺控制、PV 薄膜开发以及LED 质量控制等。

能源/光伏

光伏镀层沉积工艺

光伏镀层层间扩散

光伏电池的表面及成分

快速深度剖析

先进功能材料

LED 晶片质量控制

半导体新材料镀层解析

硬盘、玻璃和陶瓷等表面镀层分析

汽车

镀锌钢板镀层厚度及成分

彩涂板有害元素测定

监控渗氮渗碳工艺过程

磷化/ 钝化膜测定等

电池

锂电池电极/ 电解液材料表征分析

充/ 放电后元素浓度变化

监控电池寿命

专利UFS(超快速溅射)系统用于

负极分析

半导体材料

LED 晶圆镀层结构质控及研发

VCSEL 芯片镀层分析

微电子器件镀层结构分析

逆向工程

02

产品特点:

光谱范围涵盖110 nm-800 nm

光谱分辨率低至18 pm~25 pm

专利高动态检测器HDD(线性动态范围可达5X109) 

专利镀层厚度测试附件DIP

独有0.64m 单色仪(选配)可提高设备灵活性,用于全光谱扫描及N+1 通道

软件集成了标准样品、谱线波长和溅射速率的数据库

03

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半导体材料表征

您身边的防腐材料分析专家

04

索取样本、联系报价

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