T/CPIA 0065-2024
异质结电池用等离子体增强化学气相淀积（PECVD）设备
Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) equipment for heterojunction cells
T/CPIA 0065-2024 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- T/CPIA 0065-2024
- 发布
- 2024年
- 发布单位
- 中国团体标准
- 当前最新
- T/CPIA 0065-2024
- 本文件规定了本征薄膜异质结电池用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备的术语和定义、工作环境、设备要求、试验方法、检验规则以及包装、标志、搬运和运输、贮存等。 本文件适用于本征薄膜异质结电池用PECVD设备。产品主要用于沉积多种薄膜材料，例如非晶硅、微晶硅、二氧化硅、氮化硅薄膜等本征薄膜材料等。