找不到引用ASTM F1709-97(2016) 电子薄膜用高纯钛溅射靶的标准规范 的标准
而溅射属于物理气相沉积技术的一种,是制备电子薄膜材料的主要技术之一。 它利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,而形成高动能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。 ...
目前,我国靶材龙头企业江丰电子、隆华节能、有研新材、阿石创已经分别进入国内外主流半导体、平板显示、光伏、光学器件企业供应链体系,且已经在部分企业本土产线实现中大批量供货。江丰电子是我国高纯溅射靶材龙头企业,该公司产品包括铝靶、钛靶、钽靶、钨钛靶等高纯溅射靶材,应用于半导体、平板显示、太阳能等领域。超高纯金属及溅射靶材是生产超大规模集成电路的关键材料之一,长期以来被日美企业垄断。...
Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号