ASTM F1709-97(2016)由美国材料与试验协会 US-ASTM 发布于 2016-05-01。
ASTM F1709-97(2016)在国际标准分类中归属于: 31.120 电子显示器件。
ASTM F1709-97(2016) 电子薄膜用高纯钛溅射靶的标准规范的最新版本是哪一版?
最新版本是 ASTM F1709-97(2016) 。
1.1 本规范涵盖用作制造半导体电子器件的原材料的纯钛溅射靶材。
1.2 本标准规定了纯度等级、物理属性、分析方法和包装。
1.2.1 牌号是金属杂质总含量的衡量标准。牌号名称不一定表明适合特定应用,因为总金属杂质以外的因素可能会影响性能。
而溅射属于物理气相沉积技术的一种,是制备电子薄膜材料的主要技术之一。 它利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,而形成高动能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。 ...
本标准适用于非氧化气氛中钎焊电子器件用金、银及其合金钎料。SJ/T 10753-1996SJ/T 10754-2015电子器件用金、银及其合金钎料分析方法 清洁性、溅散性的测定本标准规定了电子器件用金、银及其合金钎料清洁性、溅散性测定方法。...
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