IEC 62047-14:2012
半导体装置.微电机装置.第14部分:金属薄膜材料的成型极限测量方法
Semiconductor devices - Microelectromechanical devices - Part 14: Forming limit measuring method of metallic film materials
- 标准号
- IEC 62047-14:2012
- 发布
- 2012年
- 发布单位
- 国际电工委员会
- 当前最新
- IEC 62047-14:2012
- 被代替标准
- IEC 47F/108/FDIS:2011
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