Zemax网络研讨会 | 一种全新的自由曲面优化方法：TrueFreeForm™优化

除了之前公布的于4月15日进行的研讨会，Zemax还将于4 月 8 日（周三）上午10 点为大家带来一场关于自由曲面优化方法的中文研讨会。

Zemax 在最新版本的 OpticStudio 中加入了 TrueFreeForm™ 优化功能，本次研讨会我们将为大家详细介绍这一利用网格矢高优化的前沿自由曲面技术。

随着加工制造技术的发展，在成像以及照明系统中使用自由曲面已成为一个重要的发展趋势。

在光学系统的设计流程中加入OpticStudio全新的TrueFreeForm™表面，将使设计形式更加灵活。

TrueFreeForm™优化功能赋予了优化过程更多的自由度，打破了参数式优化的局限性，对于复杂的光学设计，能够在实现局部控制的同时兼顾全局性能。

本次研讨会我们会主要介绍以下内容：

1. 自由曲面概述

2. TrueFreeForm™表面及TrueFreeForm™优化

3. 使用TrueFreeForm™优化的优势

4. 案例展示：棱镜式AR系统—人眼追踪多光通路的优化

本次中文网络研讨会

举办时间

2020年4月8日

上午 10:00-10:40 

想要参加的小伙伴

抓紧行动起来！

详询Optime工程师

图文来自Zemax官方

Zemax 网络研讨会 | OpticsBuilder功能介绍

OpticStudio 20.1.1的版本说明