广泛应用于离线和在线监控fab AMC，超纯水中阴、阳离子的监控以及高纯试剂（酸、碱和有机溶剂）中阴、阳离子分析。通过专利的在线电解淋洗液发生器实现无需手动配置淋洗液，实现操作更简单，测试结果更稳定。

广泛应用于半导体行业金属离子痕量分析检测。标配4路碰撞反应气体，彻底消除多原子离子干扰；标配有机加氧装置，可直接分析半导体行业的有机试剂样品。开放的硬件设计，使得ICPMS操作更简单，维护更方便。

最高分辨率可达10000，可区分质量数小于0.01 amu的质谱干扰，真正实现无干扰分析，并减少复杂的样品制备和方法开发过程。应用：高纯试剂、高纯材料、高纯气体中痕量元素准确定量。