GB/T 40109-2021
表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of boron in silicon
GBT40109-2021, GB40109-2021
GB/T 40109-2021 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- GB/T 40109-2021
- 别名
- GBT40109-2021
GB40109-2021 - 发布
- 2021年
- 采用标准
- ISO 17560:2014 IDT
- 发布单位
- 国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
- 当前最新
- GB/T 40109-2021
- 引用标准
- ISO 14237:2010
- 本文件描述了用扇形磁场或四极杆式二次离子质谱仪对硅中硼进行深度剖析的方法,以及用触针式表面轮廓仪或光学干涉仪深度定标的方法。/cm3 ~1×1020 a /cm3 的单晶硅、多晶硅或非晶本文件适用于硼原子浓度范围1×1016 a t oms t oms 硅样品,溅射弧坑深度在50nm 及以上。
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