GB/T 40109-2021
表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of boron in silicon
GBT40109-2021, GB40109-2021
GB/T 40109-2021 发布历史
GB/T 40109-2021由国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会 发布于 2021-05-21，并于 2021-12-01 00:00:00.0 实施。
GB/T 40109-2021 在中国标准分类中归属于: G04 基础标准与通用方法，在国际标准分类中归属于: 71.040.40 化学分析。
GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法的最新版本是哪一版？
最新版本是 GB/T 40109-2021 。
GB/T 40109-2021 采用标准及采用方式
- IDT ISO 17560:2014表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 硅在硅中深度分析的方法
GB/T 40109-2021 发布之时，引用了标准
- ISO 14237:2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
GB/T 40109-2021的历代版本如下：
- 2021年 GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
本文件描述了用扇形磁场或四极杆式二次离子质谱仪对硅中硼进行深度剖析的方法,以及用触针式表面轮廓仪或光学干涉仪深度定标的方法。/cm3 ~1×1020 a /cm3 的单晶硅、多晶硅或非晶本文件适用于硼原子浓度范围1×1016 a t oms t oms 硅样品,溅射弧坑深度在50nm 及以上。
- 标准号
- GB/T 40109-2021
- 别名
- GBT40109-2021
GB40109-2021 - 发布
- 2021年
- 采用标准
- ISO 17560:2014 IDT
- 发布单位
- 国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
- 当前最新
- GB/T 40109-2021
- 引用标准
- ISO 14237:2010
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