应用高质量分辩率辉光放电质谱计测定电子级铝中微量金属杂质的标准试验方法 是非强制性国家标准,您可以免费下载预览页
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“Element GD采用双模式快速流离子源,连续直流放电具有高溅射效率,高分析灵敏度和低的记忆效应特点,脉冲放电适合于非导体、低熔点金属和镀层分析,并结合高分辨率磁质谱确保无干扰分析。使Element GD在硅和碳化硅表面和体相杂质、6N+级高纯铜、高纯钼、5N级高纯金及氧化铟锡ITO等溅射靶材中痕量杂质分析中得到广泛的应用。...
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