ASTM F1593-97(2002)
应用高质量分辩率辉光放电质谱计测定电子级铝中微量金属杂质的标准试验方法

Standard Test Method for Trace Metallic Impurities in Electronic Grade Aluminum by High Mass-Resolution Glow-Discharge Mass Spectrometer

被代替

ASTM F1593-97(2002) 发布历史

ASTM F1593-97(2002)由美国材料与试验协会 US-ASTM 发布于 1997。

ASTM F1593-97(2002) 在中国标准分类中归属于: H12 轻金属及其合金分析方法。

ASTM F1593-97(2002)的历代版本如下：

• 2008年 ASTM F1593-08(2016) 使用高质量分辨率辉光放电质谱仪测定电子级铝中痕量金属杂质的标准试验方法
• 2008年 ASTM F1593-08 应用高质量分辩率辉光放电质谱计测定电子级铝中微量金属杂质的标准试验方法
• 1997年 ASTM F1593-97(2002) 应用高质量分辩率辉光放电质谱计测定电子级铝中微量金属杂质的标准试验方法
• 1997年 ASTM F1593-97 应用高质量分辩率辉光放电质谱计测定电子级铝中微量金属杂质的标准试验方法

该测试方法适用于半导体行业，用于评估薄膜金属化工艺中使用的材料（例如溅射靶材、蒸发源）的纯度。经有关各方商定，该测试方法可能在负责技术委员会未设想的其他应用中有用。该测试方法旨在供各个实验室的 GDMS 分析人员使用，以统一测定纯铝中痕量杂质的方案和参数。目的是提高实验室间分析数据的一致性。该测试方法还针对 GDMS 分析的用户，以帮助他们了解测定方法以及报告的 GDMS 数据的重要性和可靠性。对于大多数金属物质，常规分析的检测限约为 0.01 重量 ppm。通过特殊的预防措施，检测限制可以达到亚 ppb 水平。本试验方法可作为电子级铝材料生产者和使用单位的参考方法。

1.1 本试验方法适用于高纯铝中微量金属杂质浓度的测定。

1.2 本试验方法适用于扇形磁辉放电质谱仪（GDMS）分析。

1.3 铝基体的金属杂质含量必须达到 99.9 重量%（3N 级）或更纯。主要合金成分（例如硅或铜）的浓度不得大于 1000 重量 ppm。

1.4 该测试方法不包括完成 GDMS 分析所需的所有信息。需要由经验丰富的操作员熟练使用的先进计算机控制实验室设备才能达到所需的灵敏度。该测试方法确实涵盖了负责技术委员会已知的影响高纯铝分析可靠性的特定因素（例如，样品制备、相对灵敏度系数的设置、灵敏度限值的确定等）。

标准号

ASTM F1593-97(2002)

发布

1997年

发布单位

美国材料与试验协会

替代标准

ASTM F1593-08

当前最新

ASTM F1593-08(2016)

 

 

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