SJ 20984-2008
化学气相淀积(CVD)设备通用规范
General specification for chemical vapor deposition (CVD) equipment
SJ 20984-2008 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- SJ 20984-2008
- 发布日期
- 2008年04月15日
- 实施日期
- 2008年06月30日
- 废止日期
- 无
- 中国标准分类号
- L99
- 国际标准分类号
- 31-550
- 发布单位
- CN-SJ
- 引用标准
- GB/T 191 GB/T 5080.7-1986 GB/T 6388 GB/T 5226.1-2002 GB/T 13384-1992 GB/T 17626.1-1998 SJ/T 37-1996 SJ 1276-1977 SJ/T 10674-1995
- 适用范围
- 本规范规定了化学气相淀积设备的要求、质量保证规定、交货准备。 本规范适用于电子行业中光电子、微电子器件的研制和生产的化学气相淀积设备，其它行业的类似设备也可参照执行。