SJ 20984-2008
化学气相淀积(CVD)设备通用规范

General specification for chemical vapor deposition (CVD) equipment

标准号

SJ 20984-2008

发布日期

2008年04月15日

实施日期

2008年06月30日

废止日期

无

中国标准分类号

L99

国际标准分类号

31-550

发布单位

CN-SJ

引用标准

GB/T 191 GB/T 5080.7-1986 GB/T 6388 GB/T 5226.1-2002 GB/T 13384-1992 GB/T 17626.1-1998 SJ/T 37-1996 SJ 1276-1977 SJ/T 10674-1995

适用范围

本规范规定了化学气相淀积设备的要求、质量保证规定、交货准备。 本规范适用于电子行业中光电子、微电子器件的研制和生产的化学气相淀积设备，其它行业的类似设备也可参照执行。

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