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种植体周围炎净化处理对牙种植体钛合金表面粗...(四)

2020.5.18
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王辉

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20161214154041981.jpg 20161214154132877.jpg

 

D:超声波

20161214154142565.jpg 20161214154152231.jpg

 

E:光动力学疗法


 

图4A–E:Ti合金对照样品的SEM和EDS数据:A)对照(未改性的TiO2表面);B)碳酸氢盐喷射抛光;C)四环素处理;D)超声处理;E)光动力学疗法处理。元素

表观浓度

强度校正

浓度(% wt

σ% wt

浓度(% at

C (Kα)

  0.84

0.8750

  3.37

0.32

11.84

Al (Kα)

  1.33

0.9636

  4.87

0.16

  7.61

Ti (Kα)

24.46

0.9823

87.65

0.49

77.15

V (Kα)

  1.12

0.9632

  4.11

0.39

  3.40

A)对照

元素

表观浓度

强度校正

浓度(% wt

σ% wt

浓度(% at

C (Kα)

  0.31

0.7366

  1.38

0.30

  4.96

Na (Kα)

  0.78

0.9406

  2.71

0.17

  5.08

Al (Kα)

  1.38

0.9558

  4.73

0.15

  7.54

Cl (Kα)

  0.73

0.9914

  2.42

0.13

  2.94

Ti (Kα)

25.25

0.9793

84.65

0.49

76.02

V (Kα)

  1.20

0.9611

  4.10

0.38

  3.46

B)碳酸氢盐喷射抛光

元素

表观浓度

强度校正

浓度(% wt

σ% wt

浓度(% at

C (Kα)

  1.10

0.7748

  4.18

0.35

14.02

Na (Kα)

  0.70

0.9430

  2.20

0.15

  3.86

Al (Kα)

  1.47

0.9586

  4.52

0.14

  6.75

Cl (Kα)

  0.63

0.9878

  1.89

0.12

  2.15

Ti (Kα)

27.56

0.9733

83.26

0.49

70.09

V (Kα)

  1.29

0.9548

  3.96

0.36

  3.13

C)四环素处理

元素

表观浓度

强度校正

浓度(% wt

σ% wt

浓度(% at

C (Kα)

  1.01

0.6704

  1.64

0.27

  6.02

Al (Kα)

  3.71

0.7721

  5.26

0.13

  6.59

Ti (Kα)

79.97

0.9864

88.67

0.37

81.60

V (Kα)

  3.39

0.9713

  3.82

0.23

  3.30

Fe (Kα)

  0.49

0.8683

  0.62

0.13

  0.49

D)超声处理

元素

表观浓度

强度校正

浓度(% wt

σ% wt

浓度(% at

C (Kα)

  0.48

0.7767

  1.95

0.30

  6.93

Na (Kα)

  0.57

0.9356

  1.95

0.15

  3.62

Al (Kα)

  1.48

0.9582

  4.92

0.15

  7.79

Cl (Kα)

  0.49

0.9919

  1.56

0.12

  1.86

Ti (Kα)

26.40

0.9803

85.83

0.49

76.58

V (Kα)

  1.15






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