有关物质与残留溶剂专属性

有关物质

有关物质对于专属性要求主要主要体现在三个方面：

● 已检出与需要检出的各组分峰之间的分离度应符合要求；

● 主峰应不包含其他组分，即主峰应是单一主成分的峰；

● 如果需要进行强制降解试验评估降解杂质的检出情况，降解产物的分离度应符合要求，所有降解产物应能被准确检出。上述三个要求在验证中的数据体现为分离度、主峰峰纯度与降解试验的质量平衡结果。

有关物质方法验证过程中专属性验证可能出现的异常情况应该表现在分离度、主峰峰纯度与质量平衡验算三个方面：

（1）分离度不符合要求

如果分离度不符合要求为正常情况，应当进行方法的优化。本文仅论述方法验证期间分离度不符合要求的异常情况，导致分离度不符合要求的来源主要有色谱柱、仪器、污染等。

即使品牌、型号、规格批号均相同的色谱柱，由于寿命、经历等的差异，其选择性也可能存在差异，这种差异可能导致方法验证期间选用的色谱柱产生的分离度数据异常。为避免该情况的发生，一般来说方法开发期间应当选择较新的色谱柱，用于方法验证的色谱柱应当具有较为简单的“人生经历”，如未使用过含有表面活性剂的流动相、未分析过组分非常复杂的样品等，最好为专用柱，并在验证之前预先评估色谱柱的性能。

不同仪器可能得出不同的组分分离结果，尤其是常见的高压二元梯度与低压四元梯度之间，二者经常出现分离度有明显差异的情况。为避免流动相混合机制的不同导致的分离情况的差异，应当在方法开发期间进行相应的对比研究。如在方法验证期间发现该情况，应使用与方法开发期间同样的HPLC进行方法验证。

污染导致的分离度不符合要求，也非技术原因，本文不做论述。

2）主峰峰纯度不符合要求

导致主峰峰纯度不符合要求的情况主要来源以下几个方面：主成分响应过载、较强的流动相本底吸收、不适宜的参数设置与噪音。

较为常见导致主峰峰纯度超过规定的原因一般为主成分响应过载，尤其是自身对照法计算杂质含量的情况，供试品溶液浓度高，主峰响应非常强，甚至是峰顶表现出平头峰的形式。在这种情况下峰纯度数据一般都不会符合规定，可以通过降低进样量或供试品溶液浓度的方式进行峰纯度验证（不改变方法规定的参数）。为避免这种情况的发生，应当在进行峰纯度验证的同时，对主成分峰在规定的波长范围内的响应情况进行评估，均不得有过载的现象。

较强的流动相本底吸收，会导致低波长下的响应数据不符合主成分真实值，造成峰纯度不符合要求，一般情况下，在方法开发期间应当对此进行评估与优化，避免流动相对检测的干扰。在方法验证时发生存在该情况，应当优化峰纯度的参数，如将波长范围的最小波长适当增大。

如果不适宜的积分参数产生不适宜的峰起止时间，也可能造成峰纯度不符合要求，可通过优化积分参数的方式解决该问题。

噪音水平也会对峰纯度的计算产生影响，方法验证时应当评估噪音水平，必要时更换噪音水平较好的仪器，或进行其他优化如使用鬼峰捕集柱等。

（3）降解试验的质量平衡验算不符合要求

如果专属性验证进行了降解试验的研究，应当评估主成分的减少量与杂质的增加量二者之间的平衡，以确认所有可能的降解杂质均能被准确检出。导致质量平衡验算不符合要求的原因主要有以下三个：特定降解杂质未被检出、二次降解、降解杂质含量不能准确计算与不适宜的降解量。

如果因特定降解杂质未被检出，导致质量平衡验算不符合要求，应当对该特定杂质进行评估，如该杂质在样品生产与贮存过程不可能产生，则可进行相应的说明，并优化降解条件避免该杂质产生；如该杂质在样品生产与贮存过程可能存在，则应当对检测方法进行优化。

降解试验条件不宜过于剧烈，导致降解杂质的二次降解，增加了质量平衡验算不符合要求的风险。二次降解产物一般在样品生产与贮存过程不可能产生。为避免该情况的发生，应当在对样品的化学性质有了充分了解的前提下，进行预先的降解试验研究，确定验证时的降解试验条件。

如果主要降解杂质为未知杂质，其真实响应与主成分存在较大差异，那么就会导致计算出的该杂质含量与真实值相差较大，导致质量平衡验算不符合要求。为避免这种情况，应当在更早的时期对降解杂质进行详细的研究，获得降解杂质的对照品。

质量平衡验算的方法可以为主成分含量的减少值与杂质的增加值的比值，应在90%-110%的范围内，主成分含量的减少值一般应使用经过验证的含量测定方法进行确定，建议主成分的减少量在10%-20%之间；不宜过少使计算结果误差较大，也不宜过大增加二次降解的风险。

残留溶剂

残留溶剂的研究在某种意义上与有关物质类似，是对供试品中可能存在的溶剂进行系统的研究，包括已知的溶剂与未知的溶剂。在目前的专属性验证中，大多只是研究色谱图中已知溶剂峰之间的分离情况，忽略了未知溶剂的研究。由于现在采用的气相色谱柱大多为毛细管柱，具有非常高的柱效，一般情况下方法验证时溶剂峰之间的分离度不符合要求的情况较少（方法开发如何优化分离度不在本文论述范围），因此本文着重论述残留溶剂方法验证时出现的未知溶剂峰。

未知溶剂峰的来源一般主要从两个方面：样品本身与污染。

（1）样品本身引入的未知溶剂峰

样品本身引入的未知溶剂峰在方法验证期间需要进行细致的研究，说明其来源，必要时确认结构与性质，制定合理的限度；如不对该溶剂进行检测，应当具有合理的理由。

样品本身引入的溶剂峰来源一般有以下几个来源：副反应产物、降解产物与热降解产物。

API在合成过程中可能产生一些副反应产物为有机溶剂残留在供试品中，如酰氯遇醇的酯化物或某些基团脱落的小分子产物等，为避免方法验证时该类溶剂的干扰，应当在方法开发期间对这种可能的副反应产物溶剂进行系统的评估。方法验证期间，可通过GCMS确认其结构式，如为预期的副反应产物，且含量较高，应当订入质量标准，制定合理的限度。

某些降解产物可能为有机溶剂，应当订入质量标准，制定合理的限度。

如果供试品遇热不稳定，进行残留溶剂检测时的未知溶剂峰为热降解产物，则可通过相关实验与理论说明该未知溶剂峰为热降解产物，无需订入质量标准。必要时优化检测条件，避免热降解产物的产生。

（2）污染

污染产生的未知溶剂主要有两大来源生产过程与检测过程。生产过程可能引入未知溶剂常见于不同产品在同一干燥设备中干燥的交叉污染，检测过程引入的未知溶剂常见于供试品溶液与其他有机溶剂位置较近通过空气传播导致的污染等。由于这些情况并非技术原因，且有无数种可能性，通过相关管理制度可避免，本文不再详细论述。