Zemax China 2020年度
官方培训计划
OpticStudio成像设计培训课程
本课程为3天的OpticStudio成像设计课程，课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax图谱、玻璃材料定义、坐标变换等，以及相应的实例镜头、棱镜建模等。
OpticStudio高级成像设计培训课程
在初阶成像课的基础上，用2天时间深入介绍OpticStudio成像系统分析优化逻辑，通过实例介绍非球面、自由曲面的设计，并介绍高级公差分析技巧。该课程需要学员熟悉成像光学原理、熟悉OpticStudio序列模式操作，包括模型建立、优化、坐标间断、公差等。强烈建议先上“成像设计培训”课程。
OpticStudio激光、光纤耦合高级培训课程
本课程为2天专项培训课程，内容集中在激光、光纤的耦合仿真分析，Zemax序列、POP及非序列各工具的使用及建模分析，单模、多模激光光纤耦合实例。
OpticStudio照明设计与杂散光分析培训课程
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程，将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。
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八项优化| Optic Studio 19.4 版本说明来了
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