由于等离子刻蚀工艺中的过程变量,如刻蚀率、气压、温度、等离子阻抗,等等,不易测量,因此业界常用的测量方法有:
虚拟测量(Virtual Metrology)
光谱测量(Optical emission spectroscopy)
等离子阻抗监控(Plasma impedance monitoring)
终端探测(end-point detection)
远程耦合传感(remote-coupled sensing)
控制方法
run-to-run 控制(R2R)
模型预测控制(MPC)
人工神经网络控制